삼성 반도체, '비밀병기' CNT 펠리클 검사장비까지 개발했다 [강해령의 테크앤더시티] 작성일 10-04 55 목록 <div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> <section dmcf-sid="4li1qMyjWu"> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="c5e6d0c747954c597c1ac967915987e37903faca07cf20791ab405c3e83c727c" dmcf-pid="8SntBRWACU" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="반도체 EUV 공정용 CNT 펠리클. 사진제공=imec" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113250805erda.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="qJrZ7Qvay2" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113250805erda.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 반도체 EUV 공정용 CNT 펠리클. 사진제공=imec </figcaption> </figure> <p contents-hash="ffaffcdb5343f625cc5bb9a78d52613795391147503539e28f515dec2bc0d6f0" dmcf-pid="6YNUVnZwSp" dmcf-ptype="general">오늘은 삼성전자의 극자외선(EUV)용 탄소나노튜브(CNT) 펠리클 개발에 대해 업데이트하려고 합니다.</p> <p contents-hash="dbde7fee0ae770c97c808b3bb2274dfbf014f9090adf1bd6e2068d8c59681cb5" dmcf-pid="PGjufL5rC0" dmcf-ptype="general">지난달 22~25일 미국에서 개최됐던 'SPIE 포토마스크&EUV 노광 학회'에서 있었던 삼성전자와 세계적인 반도체 검사 장비 회사 KLA의 공동 발표 내용을 전해드릴텐데요. </p> <p contents-hash="1d218555cbe63f88ef80694690d6153ba7763a550b2a995ab0673e43e2a2f813" dmcf-pid="QHA74o1ml3" dmcf-ptype="general">사실 이번 발표는 'CNT 펠리클을 양산에 적용했다'는 도파민 터지는 연구 결과는 아닙니다. </p> <p contents-hash="6a737e435a2a9fa4afcad5cf4f4b6df6a5091abf4325eef8a2f0e2d6c2bba776" dmcf-pid="xXcz8gtslF" dmcf-ptype="general">다만 △CNT 펠리클을 적용할 수 있는 환경이 잘 갖춰지고 있다 △삼성전자가 이 소재를 적용할 의지가 상당히 강하다 정도로 해석할 수 있는 의미있는 내용으로 볼 수 있습니다. 천천히 내용을 훑어 보시겠습니다.</p> <p contents-hash="d889938f5ac0893887e0c4457354d81bfd5286183e096d4dd187ca4522dd9496" dmcf-pid="yJuElFo9lt" dmcf-ptype="general">이 발표의 주요 내용은 KLA의 대표적인 DUV 마스크 검사기인 193㎚(나노미터) '647eS' 검사기에 대한 것입니다. 이 기기로 <strong>CNT 펠리클이 부착된 EUV 마스크의 표면을 성공적으로 검사</strong>했다는 것인데요. 또한 차세대 CNT 펠리클의 측면에서 보면 제품 양산에 반드시 필요한 기본적인 항목들을 검증했다는 점에도 의미부여가 됩니다. </p> <div contents-hash="9b3b6ce0ea82e699fc6d108f75af0086fb6ac134a4ef320bc542ff6dcd463ac9" dmcf-pid="Wi7DS3g2C1" dmcf-ptype="general"> 사실 이 193㎚ 파장의 DUV는 말이죠. EUV(13.5㎚)보다 파장이 훨씬 깁니다. 그래서 EUV 펠리클을 잘 뚫고 마스크 표면까지 검사할 수 있는 빛인가에 대한 의문이 많았습니다. 그러나 CNT 펠리클 특성과 잘 변형된 검사 장비로 우려를 씻어낸 결과물을 낸 것이 눈에 띕니다. <br> </div> <hr class="line_divider" contents-hash="30f84b2e5f4fb62e238ad51d2ca8f1b0f479fe9dc1daed7dd5a7897131be84cc" dmcf-pid="Ynzwv0aVy5" dmcf-ptype="line"> <div contents-hash="3cc09bf3e735b04d2a4fc145a8cd7b1f17a5525a5fd6318ce8cc860a6b6e90aa" dmcf-pid="GLqrTpNfhZ" dmcf-ptype="general"> <strong>그물망 다공성 구조의 CNT 펠리클 … DUV도 '드루와'</strong> </div> <hr class="line_divider" contents-hash="a7eb43f27a415d39d21f44536a72f6e400b772c9eae5a333275dbf75f0f4f6c4" dmcf-pid="HoBmyUj4SX" dmcf-ptype="line"> <div contents-hash="16a07d53364555f1c524b2b8c584917be3574e5a4f01a68a9b37f27deafec98a" dmcf-pid="XgbsWuA8lH" dmcf-ptype="general"> <br> </div> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="913d156525c3508bf43dab100f1e6ef4a9e485ecfe1c40c1cef04f460f549532" dmcf-pid="ZaKOY7c6CG" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="EUV 펠리클의 쓰임새. EUV가 회로를 머금게 되는 마스크를 보호하는 덮개가 펠리클입니다. 최근 MeSi 소재에서 CNT로 변화하려는 조짐이 보이고 있습니다. 사진제공=ASML, 카나투" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113252033qwor.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="Bwjv19meh9" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img4.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113252033qwor.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> EUV 펠리클의 쓰임새. EUV가 회로를 머금게 되는 마스크를 보호하는 덮개가 펠리클입니다. 최근 MeSi 소재에서 CNT로 변화하려는 조짐이 보이고 있습니다. 사진제공=ASML, 카나투 </figcaption> </figure> <p contents-hash="0cabc80d8a1b51123c6302158788ecc9d6b406b81ca40b64d244d85fa4ff9804" dmcf-pid="5N9IGzkPyY" dmcf-ptype="general">이 내용을 이해하려면 우선 CNT 펠리클의 컨셉이 무엇인가부터 알아야 합니다. CNT 펠리클이 원래 목적인 EUV에서 뿐만 아니라 DUV 투과율까지 높은 이유는 구멍 때문입니다. </p> <p contents-hash="da4f93ce5142a877f219fce844eeb01e1ab75984f316204242e2de08dde9b590" dmcf-pid="1j2CHqEQWW" dmcf-ptype="general">CNT 펠리클은 마치 미세한 스파게티 면을 엉키게 배열한 것처럼 만들어져 있습니다. 스파게티 면 사이에는 송송 구멍이 뚫려있겠죠. </p> <p contents-hash="5395c85dcea242b1321ecdbc15ca8bbf412c2bbdbb23c1bdcc118f10c7ecff26" dmcf-pid="tBvxgI2XCy" dmcf-ptype="general">그물망 다공(多孔)성 구조, 그러니까 소재 사이사이에 있는 <strong>여러 구멍으로 어떤 빛이라도 쉽게 투과할 수 있는 성질을 가졌습니다.</strong> 물론 구멍의 지름은 수십 ㎚ 이하여서요. 마스크에 이물질을 닿지 않게 하는 본래의 '덮개' 기능도 충실하게 수행합니다.</p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="bc63cf8270d4f65b808863d630808d93905358de5bb5f713ae6dc46c29fd7a28" dmcf-pid="FbTMaCVZCT" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="스파게티 면이 얽힌 것 같은 CNT 펠리클. 다양한 빛을 통과시킬 수 있고, 깨질 위험이 적으면서 유연하고 크기 확대의 가능성도 큽니다. 사진제공=imec" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113253343tzqe.jpg" data-org-width="1109" dmcf-mid="bndrTpNfSK" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113253343tzqe.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 스파게티 면이 얽힌 것 같은 CNT 펠리클. 다양한 빛을 통과시킬 수 있고, 깨질 위험이 적으면서 유연하고 크기 확대의 가능성도 큽니다. 사진제공=imec </figcaption> </figure> <p contents-hash="031d7e84a79700121f314cdcb82bb876c99de03a3c73d6741a87c136147a748d" dmcf-pid="3KyRNhf5Tv" dmcf-ptype="general">CNT 펠리클은 현재 EUV 공정에서 적용되고 있는 금속 종류의 MeSi(메탈 실리사이드) 펠리클과는 아예 특성이 다릅니다. </p> <p contents-hash="b68debbfa3e38b8bab514847def5d7b781c6e48756827389184ec30d1e4a32f1" dmcf-pid="09Wejl41vS" dmcf-ptype="general">MeSi 펠리클은 얇은 막을 층층이 쌓은 구조입니다. 그래서 빛 투과율도 다소 낮은 편입니다. EUV는 물론 DUV 투과율은 더 낮습니다. 삼성전자는 이번 발표에서 "CNT 펠리클은 기존 MeSi 펠리클보다 아주 높은 DUV 투과율을 보였다"라고 언급했을 정도입니다. </p> <p contents-hash="5686940bdfca7e817b32916399cafcbfec38e221c960db5a04068f15757cb2e2" dmcf-pid="p2YdAS8tWl" dmcf-ptype="general">이러한 특성 때문에 지금껏 EUV 공정에서 써온 MeSi 펠리클의 경우에는요. EUV용 펠리클을 씌운 마스크 표면을 테스트하는 이른바 스루-펠리클(Thru-Pellicle) 검사를 위해 <strong>레이저텍의 APMI(Actinic Patterned Mask Inspection)라는 장비만을 예외없이 써야 했습니다.</strong></p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="76d7cbd8735fd8e6787644b7381ab5b84c2a88daf2de0a0c2383e9dbc307b506" dmcf-pid="UVGJcv6FWh" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="레이저텍의 APMI 장비. 사진제공=레이저텍" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113254568hlxk.jpg" data-org-width="660" dmcf-mid="KmYq6aFOhb" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img4.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113254568hlxk.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 레이저텍의 APMI 장비. 사진제공=레이저텍 </figcaption> </figure> <p contents-hash="280202a1dc7bcbcd459e28ab4b9637b7e594a930de1e1d0f1415fcad71813029" dmcf-pid="ufHikTP3TC" dmcf-ptype="general">마지막 단락에서 또 설명드리겠지만 APMI 장비는 레이저텍이 세계에서 단독으로 공급합니다. 가격도 매우 비싸고 장비 납기가 상당히 깁니다. 이 장비 기다리다가 EUV 시대를 제때 대응하지 못할 수 있다는 문제가 있습니다.</p> <p contents-hash="3ca82f7659ca1e746504c6c8f3b0d6965cdbe364e5efa49bac6a37a9f7b08a5a" dmcf-pid="74XnEyQ0hI" dmcf-ptype="general">반면에 CNT 펠리클은 조금 전 설명드렸던 특성 때문에 양산이 무르익은 193㎚ DUV 검사기를 가지고도 스루-펠리클 검사가 가능하죠.</p> <div contents-hash="fe14c6163fa44a0ca6ac7e0d566364e0a52b3c6e7f3bb71b65c5b1da73d19a66" dmcf-pid="z8ZLDWxphO" dmcf-ptype="general"> <strong>여기서 가능성을 본 삼성은 KLA '647eS'로 이 검사의 가능성을 처음 입증했습니다</strong>. 또 이번 발표를 위해 사용된 CNT 펠리클 샘플은 그간 삼성전자와 협력해왔던 국내 FST의 제품으로 추정됩니다. <br> </div> <hr class="line_divider" contents-hash="3f89802c9e11ea286d9e5a06e79bd08d33714b568e34fe0dcb8a7cd544245d38" dmcf-pid="q65owYMUhs" dmcf-ptype="line"> <div contents-hash="c7b882781d8cd3632197ee056a722364280b83b6851f4362ff4ebeeb685bc6f9" dmcf-pid="BP1grGRuCm" dmcf-ptype="general"> <strong>마스크 검사 안정성·그림자 문제·결함 검출력 모두 OK</strong> </div> <hr class="line_divider" contents-hash="2f97fe523821ef3add2b8751b9211f447378e25c9ca7749dd2db3a815655ebe5" dmcf-pid="bQtamHe7Tr" dmcf-ptype="line"> <div contents-hash="a5bd8f6ea243a4fe5b9d249c43e3e1c38771a245b869f733071f6d46209afb6b" dmcf-pid="KxFNsXdzWw" dmcf-ptype="general"> <br>자, 이제 본격적으로 한 걸음 더 들어가봅니다. 삼성전자와 KLA가 이번 발표에서 검사기의 성능을 증명한 것은 크게 세가지 분야입니다. 1)안전성 2)그림자 문제 3)결함 검출력 저하(sensitivity) 저하에 관한 것인데요. </div> <p contents-hash="a25e4f5fd19ec777a42f82b745f168da52662f1d088787433bdedbc221164dd5" dmcf-pid="9M3jOZJqvD" dmcf-ptype="general"><strong>우선 안전성 문제</strong>입니다. 이건 세가지 분야 중 가장 간단한 겁니다. 이 장비는 펠리클이 마스크 위에 잘 붙여졌는지, 펠리클 장착으로 인해 마스크가 파손되지 않았는지 등을 검사할 수 있고 검사 결과도 괜찮았다는 이야기입니다. </p> <p contents-hash="8205fb8ea4bea293ce9522addcb21ea1825b87f5f4983856f6a5ff7002756fff" dmcf-pid="23m2RkuSCE" dmcf-ptype="general"><strong>두번째는 그림자</strong>입니다. 전문가 용어로 '포커스 맵 에러' 테스트에 관한 것인데요. 빛의 맞은편엔 그림자가 있죠. 펠리클도 똑같습니다. </p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="92bdcf06267c790ad365bf614d36b62a6c569fac6679c9afa968b5064992ae0f" dmcf-pid="V0sVeE7vyk" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="펠리클의 '프레임'으로 인해 생길 수 있는 그림자 문제. 사진=삼성전자·KLA SPIE 발표 자료 각색" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113255795rjsh.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="94XAI5iBlB" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img3.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113255795rjsh.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 펠리클의 '프레임'으로 인해 생길 수 있는 그림자 문제. 사진=삼성전자·KLA SPIE 발표 자료 각색 </figcaption> </figure> <p contents-hash="40e1e1dca60f63c6283f28eb5d955d8e2e1b8e50c671aee3772663f2d5415a66" dmcf-pid="fpOfdDzThc" dmcf-ptype="general">펠리클 가장자리에는 펠리클을 지지하는 '프레임'이 있습니다. 그런데 비스듬한 빛이 마스크로 향할 때 이 프레임을 맞닥뜨리면 마스크 안쪽에는 그림자가 생기게 됩니다. </p> <p contents-hash="d65a211f20085cf1c695ba4d4b3b40ec481e1bc60e0d2bd7f859e3f67db18271" dmcf-pid="4UI4JwqySA" dmcf-ptype="general">검사해야 할 부분이 어두워지면 많은 문제가 생깁니다. 특히 초점이 흐려지면서 마스크 상태를 잘 체크하지 못하는 '포커스 맵 에러'가 발생할 수 있다는 우려가 커집니다. </p> <p contents-hash="48f2455831d8f7fdbb1e22e3dea9cb58182af5e60937a4a363e58453437f9d46" dmcf-pid="8uC8irBWCj" dmcf-ptype="general">삼성전자는 이 DUV 기기로는 그림자 문제 없이 검사할 수 있다는 결론을 냈습니다. </p> <p contents-hash="586b35050be4cca92f10db8d61544f045df9c6e20f5b972ceafae8ba760b3675" dmcf-pid="67h6nmbYCN" dmcf-ptype="general">발표 자료의 데이터를 보면, 프레임으로부터 1.7㎜ 떨어진 곳은 아예 '검사 불가능'으로 체크를 했고, 2.0㎜ 떨어진 곳에서는 '경고(warning)' 판정으로 내렸지만요.</p> <p contents-hash="cd9ad7660619dbae237f0ecede397790d73fd35ac947fa604542af7d0710a747" dmcf-pid="PzlPLsKGWa" dmcf-ptype="general">다행히 프레임으로부터 2㎜ 떨어진 공간까지는 회로가 새겨지지 않은 일종의 '더미 존(dummy zone)'입니다. <strong>회로가 새겨진 부분은 아무 무리 없이 검사가 가능하다</strong>는 뜻입니다. </p> <p contents-hash="44a1aff0d0b1484efcc8a2300b0b651c74809115f6b6e587e373de18680297d4" dmcf-pid="QqSQoO9HCg" dmcf-ptype="general">또한 <strong>그림자로 인해 생길 수 있는 가짜 결함은 '0'</strong>이었고요. CNT 펠리클을 씌우기 전과 후를 비교했을 때 검사장비 세팅에 걸리는 시간, 실제 검사에 걸리는 시간이 동일했다는 결과값도 제시했습니다.</p> <p contents-hash="7e833448f9d98723ad7e46fce4237022aa676d94f74922856953ce67ef382101" dmcf-pid="xBvxgI2XTo" dmcf-ptype="general"><strong>세 번째는 결함 검출력(Sensitivity)</strong>입니다. 빛을 사용하는 검사 기는 빛을 쐈을 때 마스크 쪽에 생기는 불필요한 그림자로 불량 유무를 판단합니다.</p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="9b5cf0ae6d5434aedd783782485cc7e1309d125bd2925de16facb4b1ddf855e0" dmcf-pid="ywPyFVOJCL" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="마스크에 펠리클을 부착하면서 생기는 민감도(Sensitivity) 저하에 대응하기 위한 삼성전자의 해결책. 투명 창문(Open Absorber)를 마스크 안에 놓아서 새로운 불량 판별 기준을 만듭니다. 사진=한경DB, 삼성·KLA 발표자료 각색" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113257014oqrn.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="2FKTt2sdhq" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img3.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113257014oqrn.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 마스크에 펠리클을 부착하면서 생기는 민감도(Sensitivity) 저하에 대응하기 위한 삼성전자의 해결책. 투명 창문(Open Absorber)를 마스크 안에 놓아서 새로운 불량 판별 기준을 만듭니다. 사진=한경DB, 삼성·KLA 발표자료 각색 </figcaption> </figure> <p contents-hash="0607a48691c151cf5624cb6bf0f0eb24d2c281d6701008dd64aec6860e66b00d" dmcf-pid="WrQW3fIiSn" dmcf-ptype="general">만약 회로에 빛을 쐈을 때 미세하고 찜찜한 그림자가 발견된다면 그 주변에 이물질이 묻어있을 가능성이 크다고 보는 거죠. </p> <p contents-hash="c147478ed555a2dc05124e4ba0a40dd4d6fbcc503788dddf9341f6bf85b8fa41" dmcf-pid="YmxY04CnSi" dmcf-ptype="general">여기서는 펠리클 바깥에 붙어있는 '눈금 키(calibration key)'가 핵심 키워드입니다.</p> <p contents-hash="474c6f8a4004932ca76204811b10bccc940185a4025f992f114e21bdf493deb3" dmcf-pid="GsMGp8hLlJ" dmcf-ptype="general">눈금 키는 말 그대로 가늠자 또는 기준점 역할입니다. 예를 들어 눈금 키가 받아들인 빛이 100이고, 회로에 닿은 빛도 100이라면 오류가 없는 거고요.</p> <p contents-hash="0de1ce250aadd5a789c733c1ca1b19df31575ff403b99a556986277f8e9f79f9" dmcf-pid="HORHU6loTd" dmcf-ptype="general">회로에 닿은 빛이 어떤 자리에서 쌩뚱맞게 50에 불과하다면 이물질로 인해 그림자가 드리운 것으로 보고 불량이 생겼다고 판단하는 거죠.</p> <p contents-hash="8187e4a0db1d710b0e0b898602a67874d9e8fe402208922f1dc6b8e539502070" dmcf-pid="XBvxgI2XCe" dmcf-ptype="general">그런데 마스크 위에 펠리클을 씌우면서부터 큰 문제가 생깁니다. 마스크 위에 덮개가 생기면 마스크로 향하는 전체 빛의 양이 줄어들죠. <strong>본의 아니게 검사기는 마스크 자체를 불량으로 판단할 가능성이 커집니다. </strong></p> <p contents-hash="7441ff43263786046d8c943417e29567cdbdee7788d9d9859b854b21e0254b90" dmcf-pid="ZbTMaCVZSR" dmcf-ptype="general">이걸 해결하기 위해 삼성과 KLA는 새로운 방법을 고안합니다. <strong>마스크 안에 투명 창문(Open Absorber)을 하나 더 장착하는 방법입니다. </strong></p> <p contents-hash="f51d8a7e934799304a75eabfad2bf0a4bb3f054a5a0cab02360674d95725ae52" dmcf-pid="5KyRNhf5TM" dmcf-ptype="general">이 투명 창문에서 받아들인 빛의 양을 새로운 판별 기준으로 삼는 것입니다. 예를 들어 눈금키에서 빛을 받아들인 양이 100이고 투명 창문은 80일 때, 회로가 정상이라면 맞딱드린 빛의 양을 80으로 판별하는 거죠.</p> <p contents-hash="7caf953b25ce201bb113a0566eb400a2e28f455136e30a539a4a14a8e28e2fc2" dmcf-pid="19Wejl41vx" dmcf-ptype="general">물론 그렇더라도 눈금 키는 눈금 키대로 반드시 필요합니다. 애초에 마스크로 쏜 빛의 강도가 센지 약한지를 판별할 수 있는 기준 역시 반드시 필요하니까요.</p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="fa216b0110fb7f487e83faad0fd9f425bb0da9b264faab477f793bdba2ebc39d" dmcf-pid="t2YdAS8tTQ" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="삼성전자가 결함 검출력(Sensitivity) 개선을 위해 연구한 다양한 방법. 사진=삼성·KLA SPIE 발표자료 각색." class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113258244kcjj.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="V3JUVnZwCz" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img4.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113258244kcjj.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 삼성전자가 결함 검출력(Sensitivity) 개선을 위해 연구한 다양한 방법. 사진=삼성·KLA SPIE 발표자료 각색. </figcaption> </figure> <p contents-hash="bb72b85edd4a302a36aaf2c3f2ab0ac8ad1b550113170c4a9c095a29625dc7c2" dmcf-pid="FVGJcv6FlP" dmcf-ptype="general">이 방법을 만들기 전까지 삼성전자는 갖은 시도를 했습니다. 눈금 키를 아예 마스크 안쪽에 배치하는 방법도 고려했지만 양산성이 안 나와서 접었고요. </p> <p contents-hash="360c7f0934d1c72748a999159281b47f766981e298e09225ea413c53f2368626" dmcf-pid="3fHikTP3h6" dmcf-ptype="general">마치 사진기의 ISO를 높이는 것처럼 마스크가 빛을 받아들인 이후에 전기 신호를 증폭시키면, 눈금 키 부분이 너무 과도하게 빛을 받는 것처럼 돼버려서 검사 자체가 힘들어졌습니다. 투명 창문을 마스크 안에 두는 방법이 지금까지는 최선의 방법인 것 같습니다.</p> <div contents-hash="e093bad4680ba062d56affbd1dcde11736281f451c14d0d9ee2e1fa19718d541" dmcf-pid="04XnEyQ0T8" dmcf-ptype="general"> 아무튼 삼성전자는 이런 노력을 통해 오히려 펠리클을 씌우기 전보다 훨씬 더 좋은 검사 결과를 얻었다고 합니다. <strong>1차원 회로에서는 패턴에 생긴 알갱이를 52.5% 더 선명하게 찾아냈고요. 구멍(hole) 같은 2차원 회로에서 생긴 불필요한 이물질 역시 48.9% 더 잘 찾아냈다는 결과를 냈습니다. </strong> <br> </div> <hr class="line_divider" contents-hash="54e1b1f8bdabc9199538baf3a1d936544d5b1da24edfdceed87e742a353304e3" dmcf-pid="p8ZLDWxph4" dmcf-ptype="line"> <div contents-hash="ea65b01be1ccef2e1f012903139f7e19a179575d4a5d07d68b722373a915492f" dmcf-pid="U65owYMUSf" dmcf-ptype="general"> <strong>레이저텍 의존도 완화 기대…CNT 펠리클은 TSMC 앞지를 수 있을까</strong> </div> <hr class="line_divider" contents-hash="fe9ac692c5b122f933f4e9675654296826659783ff9c603ba55d4c182296b70c" dmcf-pid="uP1grGRuhV" dmcf-ptype="line"> <div contents-hash="b055e0984d71c52b57d3d8416b3a4d5135ec61c3aaebca08d995afda13c9e529" dmcf-pid="7QtamHe7y2" dmcf-ptype="general"> <br>이번 발표는 두 가지 성과를 내포하고 있습니다. 우선 <strong>검사기의 성능도 성능이지만 CNT 펠리클의 상용화에 좀 더 가까이 갈 수 있겠다는 의미</strong>가 있습니다. </div> <p contents-hash="fee374aea9879bd849713c1fb971681075a42673b5de585ac681cfebc826366c" dmcf-pid="zxFNsXdzC9" dmcf-ptype="general">CNT 펠리클과 마스크는 양산 라인에 도입하기 전엔 반드시 검사를 거쳐야 하는데요. 일단 어느 빛이든 잘 투과한다는 장점을 증명해냈고, 또한 양산에 필요한 검사 단계에 다다랐을 만큼 커다란 진전이 있었다는 것도 추정할 수 있습니다. </p> <p contents-hash="01103c11c90838f3323cb181cbde2510247df574d1eb0358a47c7a8d490f1974" dmcf-pid="qM3jOZJqWK" dmcf-ptype="general">아울러 삼성전자의 CNT 펠리클을 도입하기 위한 강한 의지도 읽힙니다. (사실 이 이유가 가장 주요해보입니다.) </p> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="71895d353b551f6124423252990944fa2073ace4942bf3a81ff3f9c55c5f94c5" dmcf-pid="BR0AI5iBCb" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="KLA의 DUV 마스크 검사장비(왼쪽)와 레이저텍의 EUV용 APMI 검사장비. 사진제공=KLA, 레이저텍" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113259500wpsw.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="fWLFbeYcv7" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img3.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202510/04/ked/20251004113259500wpsw.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> KLA의 DUV 마스크 검사장비(왼쪽)와 레이저텍의 EUV용 APMI 검사장비. 사진제공=KLA, 레이저텍 </figcaption> </figure> <p contents-hash="3c022ee2208894c530cf4ef151894da32e7b1243b335e371ac3ef771a722394d" dmcf-pid="b2YdAS8tSB" dmcf-ptype="general">삼성전자는 기존 MeSi EUV 펠리클과 마스크를 테스트할 수 있는 APMI 검사 장비를 몇 대 보유하고 있지 않은 것으로 알려져 있습니다.</p> <p contents-hash="674501511c09ee4c7325436ec26ef15d0a403846eeb11d15d7fc9916b947cf3b" dmcf-pid="KVGJcv6FWq" dmcf-ptype="general">일본 레이저텍이 세계에서 독점 공급하고 있는데 그간의 여러 말 못할 사정으로 인텔·TSMC에 비해 많이 보유하고 있지 못합니다. </p> <p contents-hash="8995fa6161ef04ea89fb5b6dc9ec30fde330c23f6d0b5ecde3d376895d7dec68" dmcf-pid="9fHikTP3Wz" dmcf-ptype="general">그간 MeSi 펠리클이 대세인 상황에서는 EUV 마스크 스루-펠리클 검사에 불리한 점이 많았다는 얘기죠. </p> <p contents-hash="13c538c608e22404811718f014382b2cfa67bcf493dc2a4ea337c74fe42579f0" dmcf-pid="24XnEyQ0C7" dmcf-ptype="general">반면에 서두에 말씀드렸듯이 KLA의 DUV 마스크 검사 장비는 너무나도 상용화된 제품입니다. 장비 가격이 레이저텍 기기에 비해 크게 저렴하고 구하기도 쉽습니다.</p> <p contents-hash="b7263cdc7cfc0a119b12cec89c38d0e7782b2b78cfc137c543e574f702e736f3" dmcf-pid="V8ZLDWxpyu" dmcf-ptype="general">삼성은 이번 논문 발표와 함께 경쟁사보다 열위에 있는 검사 장비 수·EUV 펠리클 분야에서 돌파구를 만들어보려는 전략을 세운 것 같습니다. 실제 삼성 측은 이 발표에서 <strong>"기존 검사 장비보다 운영비를 40% 가까이 줄일 수 있다"</strong>고 발표했습니다.</p> <p contents-hash="e59b4bbf72da5bd3c602b2e26d45fb2e49cd0dde0fc06b02196f045777d4ffe8" dmcf-pid="f65owYMUWU" dmcf-ptype="general">아울러 APMI 검사 장비 개발에서 레이저텍보다 한 발 늦은 KLA 입장에서도 기회입니다. 자신들이 강세였던 DUV 검사 장비의 활용성이 늘어날 것으로 보이자, 삼성과 적극적인 협력을 진행한 것으로 보입니다. </p> <p contents-hash="309c5be0578715f677b9c1355df7074c031ad7e5c2030bbc03fb4d4b480f0d37" dmcf-pid="4P1grGRulp" dmcf-ptype="general">삼성전자가 KLA, FST 등과의 협력으로 EUV 펠리클 판에서 새로운 바람을 일으킬 수 있을지 주목됩니다.</p> <p contents-hash="13e5e8a1c475249e57e703f4fe63d9f1a4028d31df8ffbd3d824ded0e6ee7ad1" dmcf-pid="8QtamHe7l0" dmcf-ptype="general">오늘은 여기까지입니다. [강해령의 테크앤더시티]와 함께 즐거운 명절 보내세요. 감사합니다.</p> <p contents-hash="3082a16a4fc711e655fb020eea783e0f24bd1a466bb1057ab972e5a8caa712c1" dmcf-pid="6xFNsXdzy3" dmcf-ptype="general">강해령 기자 hr.kang@hankyung.com</p> </section> </div> <p class="" data-translation="true">Copyright © 한국경제. 무단전재 및 재배포 금지.</p> 관련자료 이전 손담비, 남편+딸과 맞는 첫 생일 "밖에 나오면 울지도 않는 효녀" [RE:뷰] 10-04 다음 날지 못하는 새의 비밀…타조의 조상이 하늘을 날았을 때 [핵잼 사이언스] 10-04 댓글 0 등록된 댓글이 없습니다. 로그인한 회원만 댓글 등록이 가능합니다.
