인하대, EUV 포토레지스트 안정성·감도 동시 개선 기술 제시 작성일 01-30 6 목록 <div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> <strong class="summary_view" data-translation="true">주석 나노클러스터 안정화로 10nm급 해상도 구현<br>삼성전자·동진쎄미켐과 협업해 두 차례 SCI 논문 게재</strong> <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> <section dmcf-sid="YvXjtVUZIu"> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="5529dc43bd9c149ff52e4342afe2419222f5a3e0f5435323d7365aa67d3e08c2" dmcf-pid="GTZAFfu5sU" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="구예진 인하대 자연순환형 전자소재연구소 박사." class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202601/30/etimesi/20260130111135805sytb.png" data-org-width="378" dmcf-mid="W1SJW7Zvw7" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img1.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202601/30/etimesi/20260130111135805sytb.png" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 구예진 인하대 자연순환형 전자소재연구소 박사. </figcaption> </figure> <p contents-hash="0bb2473fd61336aea21c3041988e55678c9917a5902ecb9247c08dfa101736a4" dmcf-pid="Hy5c3471Ep" dmcf-ptype="general">국내 연구진이 극자외선(EUV) 리소그래피 공정에서 차세대 포토레지스트 소재의 안정성과 감도를 동시에 높일 수 있는 기술적 해법을 제시했다.</p> <p contents-hash="86b0e0fdfe77d7dc9306c2a7ea363eee4d718abc0c5b1d3e9d741d5db94e198d" dmcf-pid="XW1k08zts0" dmcf-ptype="general">인하대학교는 구예진 자연순환형 전자소재연구소 박사와 고분자공학과 재료합성연구실 연구팀이 EUV 리소그래피 기반 초고집적 반도체 공정에서 포토레지스트 소재의 신뢰성과 성능 한계를 동시에 개선할 수 있는 전략을 잇따라 제시했다고 29일 밝혔다.</p> <p contents-hash="935d82b9b70fedff9ab75414626bf2a4fdf8386ad70e6524785116e5748aa515" dmcf-pid="ZYtEp6qFD3" dmcf-ptype="general">EUV 공정은 매우 짧은 파장의 빛을 이용해 나노미터(nm) 수준의 초미세 회로를 구현하는 핵심 기술이다. 이 과정에서 빛을 받아 화학적 성질이 변하며 회로의 밑그림을 형성하는 포토레지스트는 공정 정밀도와 수율을 좌우하는 핵심 패터닝 소재로 꼽힌다.</p> <p contents-hash="c31567595a42d898c950c2cb9c9bf3afe39f26b425f5e3ffc997d8d7b5503dec" dmcf-pid="5GFDUPB3OF" dmcf-ptype="general">회로 선폭이 극도로 미세해지면서 기존 유기물 포토레지스트의 한계를 보완할 대안으로, 최근에는 더 정밀한 회로 구현이 가능한 주석 나노클러스터 기반 포토레지스트가 차세대 후보로 주목받고 있다. 다만 이 소재는 공정 중 공기와 접촉하면 특성이 변해 회로 품질과 공정 안정성이 떨어지는 한계가 있었다.</p> <p contents-hash="ccff366f1888ef1050b9c8681912090179fd0b58cc806c2e5bdd379b3d20d3b8" dmcf-pid="1H3wuQb0Dt" dmcf-ptype="general">구 박사는 이런 불안정성 원인이 주석이 지닌 루이스 산성(Lewis acidity) 특성에 있다는 점에 착안했다. 대기 중 수분과 쉽게 반응하는 화학적 성질을 불소 원자 도입으로 완화하는 전략을 제시하고, 소재 합성과 EUV 리소그래피 실험을 통해 포토레지스트의 안정성과 공정 신뢰성을 높였다.</p> <p contents-hash="c8d294544eaeb3cc1798731a6cc056783a2d51e7b1d84fd53abd57a7102bbffb" dmcf-pid="tX0r7xKpO1" dmcf-ptype="general">공동 연구팀이 불소를 도입해 합성한 주석산화물 포토레지스트는 10nm급의 높은 패터닝 해상도를 구현하면서도 대기 노출에 따른 성능 저하 없이 안정적인 공정 특성을 유지한 것으로 확인했다. 또 불소 기반 소재 특성을 활용해 포토레지스트 이중 적층 구조를 구현함으로써, 더 적은 광량으로도 회로 형성이 가능해져 EUV 공정 효율을 크게 높일 수 있음을 보여줬다.</p> <p contents-hash="ab31900cdb6bd9fa62406b5953f4c87b9d75a098806893db4fcf0b4ec9cd0860" dmcf-pid="FZpmzM9UO5" dmcf-ptype="general">이 연구 성과는 삼성전자 미래기술육성센터의 지원 아래 삼성전자 반도체연구소와의 협업을 통해 이뤄졌다. '대기 안정성과 높은 EUV 감도를 갖춘 주석산화물 나노클러스터 기반 극자외선 포토레지스트'라는 제목으로 재료과학 분야 국제 학술지 'Advanced Functional Materials'에 게재됐다.</p> <p contents-hash="a8b5a4b98238455c4f92bf953ea669a98c3d907442988175675abf411db66b52" dmcf-pid="3hYgZK3GEZ" dmcf-ptype="general">또 연구팀은 화학증폭형 포토레지스트(CAR)의 EUV 감도와 패턴 품질을 동시에 향상시킬 수 있는 접근법도 제시했다. EUV 공정은 13.5nm 파장의 빛을 사용하지만, 노광 과정에서 충분한 광자가 전달되지 않으면 회로 품질이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.</p> <p contents-hash="ec10e9f4feb42405f23dd736dd8399b6b7a59798c8b86a66d750b49c8f409d62" dmcf-pid="0lGa590HDX" dmcf-ptype="general">연구팀은 노광 광량을 늘리는 대신 빛 흡수 효율이 높은 원소를 포토레지스트에 도입하는 방식을 제안했다. 실험 결과 아이오딘이 화학증폭형 포토레지스트의 작동 효율을 높이는 데 효과적인 원소임을 확인했으며, 아이오딘을 다량 포함한 CT 조영제 기반 방사선 증감제를 합성해 상용 EUV 포토레지스트에 적용한 결과 감도와 패턴 품질이 동시에 향상되는 효과를 입증했다.</p> <p contents-hash="8ace34587698b89accdb6200249afc75bdd44aacc2f30771e00472f0c0702a1f" dmcf-pid="pSHN12pXsH" dmcf-ptype="general">이 성과는 동진쎄미켐 전자재료사업부와의 공동연구를 통해 이뤄졌으며, '극자외선 리소그래피용 화학증폭형 포토레지스트에서 아이오딘 원자의 긍정적 역할'이라는 제목으로 국제 학술지 'ACS Applied Materials & Interfaces'에 게재됐다.</p> <p contents-hash="08b11391486403a3cc27e85ac09c5033a919353f66d694499770179e41726cc1" dmcf-pid="UvXjtVUZrG" dmcf-ptype="general">구예진 박사는 “기업과 긴밀한 협력을 통해 첨단 반도체 공정에서 실제로 요구되는 문제 해결 전략을 제시할 수 있었다”며 “국내 반도체 기술 경쟁력 향상에 기여하는 연구를 이어가겠다”고 말했다.</p> <p contents-hash="ac5182cd4b4695eac0d2664dcb254e9d27d77f610cbc40e5657c71b75fbe9be3" dmcf-pid="uTZAFfu5EY" dmcf-ptype="general">인천=김동성 기자 estar@etnews.com</p> </section> </div> <p class="" data-translation="true">Copyright © 전자신문. 무단전재 및 재배포 금지.</p> 관련자료 이전 전국에 고작 2명 ‘명맥’ 침구사 논쟁 수면위로 01-30 다음 하나 둘 꼬리 밟히는 사이버범죄 현장… 블랙바스타 이어 RAMP도 '덜미' 01-30 댓글 0 등록된 댓글이 없습니다. 로그인한 회원만 댓글 등록이 가능합니다.
